新应材1月中旬挂牌上柜 明年迎2纳米新品贡献

　　新应材：以微影特化材料引领半导体先进制程市场

　　新应材即将在2024年1月中旬正式挂牌上柜，公司董事长詹文雄表示，伴随着客户的2纳米制程将在明年下半年量产，新应材的核心产品——光阻外围表面改质剂，以及新开发的底部抗反射层和洗边剂，将迎来更大的市场机会。法人预计，新应材2024年的营收有望增长20%，标志着公司在半导体领域迈入新的高速成长阶段。

　　核心产品与市场地位

　　新应材专注于半导体微影制程的特化材料，特别是光阻外围表面改质剂，这是微影制程中提升良率的关键材料。

　　光阻外围表面改质剂：当前半导体营收占比已超过78%，且持续成长，是推动公司盈利的主要动力。

　　新产品突破：

　　底部抗反射层材料(BARC)

　　洗边剂(Rinse)

　　这两项产品将在2024年进入市场成熟期，为公司未来的营收提供新动能。

　　生产布局与扩展计划

　　新应材目前在高雄厂与台南厂一期投入两班制生产，用于Rinse和其他产品的制造，合计产值可达40亿元。

　　产能扩充：

　　高雄厂二期及台南厂二期正在验证中，预计2026年第一季投产，届时两厂总产值可望达到50亿元。

　　本土供应链优势：

　　通过与本地合作伙伴的紧密合作，新应材已形成稳健的材料供应链战略联盟，为客户提供快速响应和高质量产品。

　　技术优势与竞争力

　　新应材成立于2003年，并于2018年转型聚焦半导体微影制程的特化材料，凭借自主研发与生产能力建立了四大核心竞争优势：

　　垂直整合能力：从原料合成到配方开发全自主化，提升了供应链的稳定性和成本效益。

　　本土化战略联盟：通过与国内供应链的深度合作，打造了强大的竞争壁垒。

　　快速响应与学习能力：在长时间验证周期的半导体材料领域，展现了灵活高效的开发能力。

　　品质与技术控制：凭借自主设计制程技术与严密的品质控管，在国际市场上占据有利位置。

　　未来发展方向

　　新应材正在加速研发纳米级微影特化材料，目标涵盖即将量产的2纳米及未来1.4纳米制程的关键材料。

　　扩展至DUV光阻：已成功开发出可应用于半导体微影及光学元件制程的DUV光阻技术，有望成为台湾第一家半导体光阻供应商。

　　提升良率关键材料：未来将专注于提高先进制程终端应用的良率，为客户提供更高品质的解决方案。

　　展望与市场影响

　　2024年，新应材将凭借客户2纳米制程量产带来的增长契机，加速扩展市场份额。同时，新切入的底部抗反射层与洗边剂将进一步巩固其在半导体材料领域的地位。未来，新应材有望通过持续的技术创新与产能扩充，成为国际半导体材料市场的重要参与者，并为台湾高科技产业链贡献更多力量。