韩媒：英特尔抢先包下ASML首批High-NA EUV设备
中国基金网
韩媒传出，英特尔已包下荷商阿斯麦新型High-NA EUV(高数值孔径极紫外光)微影设备直到明年上半为止的多数供应量。
TheElec 8日引述未具名消息人士报导，ASML今年准备制造5台High-NA EUV微影设备。 由于这种设备每年只能生产约5~6台，代表第一批将全数出货给英特尔。
英特尔竞争对手三星电子、SK海力士预料要等到明年下半才能取得上述设备。
对想要打造2纳米芯片的业者来说，High-NA EUV微影设备不可或缺，其价格每台超过5000亿韩元。
台积电甫于4月24日宣布，全新的A16制程将于后年下半年投产，且这项制程并不需用到ASML的High-NA EUV微影设备。
台积电高层当时在加州圣塔克拉拉举行的会议表示，AI芯片制造商很可能是第一批采纳A16的客户、而非智能手机制造商。 台积电重要客户包括英伟达、苹果。
据路透报导，最新发表的技术让分析师开始质疑，英特尔能否真如2月宣称的那样，可用旗下「14A」制程取代台积电，打造全世界运算速度最快的芯片。 TechInsights副董事长Dan Hutcheson表示，英特尔的说法有争议，「在某些面向，我不认为他们已经领先对手。 」
