日月光推小芯片互连技术 实现AI创新应用
全球封测龙头日月光投控今日宣布，VIPack平台先进互连技术的最新进展，透过微凸块技术将芯片与晶圆互连间距的制程能力从40um提升到20um，可以满足AI应用于多样化小芯片整合日益增长的需求。
日月光表示，这种先进互连解决方案，对于在新一代的垂直整合，例如日月光VIPack平台2.5D和3D封装与2D并排解决方案中实现创造力和微缩至关重要。
随着小芯片设计方法的加速进化，对于以往存在芯片IO密度限制进行真正的3D分层IP区块，日月光的先进互连技术使设计人员能够有创新的高密度小芯片整合选项，微凸块技术使用新型金属叠层，将间距从40um减少到20um。 微凸块技术的进步扩展现有的硅与硅互连能力，此技术更有助于促进其他开发活动，从而进一步缩小间距。
当针对系统单芯片进行小芯片或IP区块解构时，区块之间可能存在大量的连接，小尺寸IP区块往往会导致许多空间受限的连接，微间距互连技术可以实现3D整合以及更高密度的高IO内存。
随着全球人工智能市场近年呈指数型增长，日月光提供先进的互连创新技术，可以满足复杂芯片设计以及系统架构的要求，降低整体制造成本并加快上市时间。 芯片级互连技术的扩展为小芯片开辟了更多应用，不仅针对人工智能等高阶应用，也扩及手机应用处理器、微控制器等其他关键产品。
日月光集团研发处长李长祺表示，硅与硅互连已从銲锡凸块进展到微凸块技术，随着我们进入人工智能时代，对于可跨节点提升可靠性和优化性能的更先进互连技术需求日益增长，我们通过新的微间距互连技术突破小芯片整合障碍，并将持续突破极限以满足小芯片整合需求。
日月光工程与技术营销资深处长 Mark Gerber 说，我们的客户要求变革性技术来支持他们的产品蓝图。 这些先进的互连技术，例如结合VIPack结构的微凸块有助于解决性能、功耗和延迟方面的挑战。 日月光的先进互连技术为寻求超微细间距解决方案的客户提供了令人信服的选择，可以提高整体性能、实现可扩展性和功耗优势。
日月光销售与营销资深副总Yin Chang表示，日月光VIPack透过创造性的互连技术延续动能，这些互连技术克服以往限制并符合动态应用需求，日月光与客户一起探索每一个半导体设计和系统解决方案的新性能和可持续效率。
日月光VIPack是一个对焦产业蓝图可不断扩展的平台，拥有优化的协作设计工具—整合设计生态系统，可系统性地提升先进封装架构。
