《GTC大会》英伟达、台积电、新思携手加速芯片制造

英伟达在2024年「GPU Technology Conference」(又称GTC大会)宣布，台积电、电子设计自动化软件商新思科技已开始在各自的制程、软件及系统中使用「cuLitho」软件数据库来加快表达式微影，协助芯片商运用高数值孔径极紫外光微影设备等先进芯片制造工具，在转入2纳米以下晶体管时突破限制。

Tom's Hardware、Investing.com 等外电报导，英伟达首席执行官黄仁勋18日透过新闻稿表示，运算式微影乃晶片制造的基石。 台积电、Synopsys采纳cuLitho来加快芯片制造速度后，未来将支持英伟达最新世代的Blackwell架构GPU。

举例来说，运算式微影是运算负载最高的半导体制程，若使用CPU、每年得耗费数十亿小时。 光是典型的芯片光罩组(为生产制程的关键步骤)，就需要3000万小时或更多的CPU运算时间，因此晶圆厂内都需要设置大型数据中心。

透过加速计算，如今只要内建350颗英伟达H100的系统，就能取代内建4万颗CPU的系统，能加速生产时间，同时降低成本、节省空间和能源。