摩尔定律放缓 推进2纳米制程有两大关键
中国基金网
美商英特格和德商默克的高管谈到，随着摩尔定律放缓，新材料和更先进的化学品对芯片制造产业的重要性将日益显著。
包括台积电、英特尔、超微等重量级的科技厂，仍认为摩尔定律依然有效，随着这些厂商将制程技术推向极限之际，英特格技术长James O“Neill接受日经访问时表示，推动先进制程核心是先进材料和清洁解决方案， 而不再是芯片制造设备。
O“Neill 解释：「30 年前，一切得靠微影设备在芯片上制造更小的电晶体，并且提升设备性能，而改良性能主要仰赖材料创新，这有其支持论点。」
半导体材料大厂默克集团执行董事暨电子材料事业体执行长Kai Beckmann也在受访时透露：「我们正从过去20年芯片制造设备的时代迈向下个十年，也就是客户所说的材料时代。」
大规模生产2纳米制程竞赛已启动，荷兰半导体设备大厂阿斯麦，将在未来几个月内推出制造2纳米芯片的设备，台积电、三星和英特尔领军之下，半导体产业「超精细」竞赛开打，三星电子、SK海力士和美光努力在两年内生产300层以上NAND内存，目前为230层以上。
不过，要在内存芯片和逻辑芯片两大领域继续挺进，还需要全新尖端材料。
O“Neill 称，GAA 架构的研发材料需能均匀覆盖顶部、底部和侧面的创新材料，业界正设法在原子尺寸之下达成此一目标。
O“Neill 提到，产品良率已成为决定那些厂商具有商业竞争力的关键，化学品是确保质量一致的重要关键，高纯度化学品是确保无瑕生产、将缺陷降到最低的基本要素。
