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台积电迈向1.4和1纳米制程2030年完成

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在国际电子元件会议会议上,台积电制定了提供包含1兆个晶体管的芯片封装计划,这些庞然大物将来自于单一芯片封装上的3D封装小芯片集合。 而台积电也致力于开发在单芯片硅上包含2000亿个晶体管的芯片。

Tomshardware报导,为了实现这一目标,台积电重申正在致力于2纳米级N2和N2P生产制程,以及1.4纳米级(A14)和1纳米级(A10)制造技术,预计将于2030年完成。

此外,台积电预计封装技术将取得进步,使其能够在2030年左右,建造封装超过1兆个晶体管的大规模多芯片解决方案。

辉达的800亿个晶体管GH100是市场上最复杂的单芯片处理器之一,根据台积电的说法,很快就会有更复杂的单晶片,拥有超过1000亿个晶体管。 但建造如此大型的处理器变得越来越复杂和昂贵,因此许多公司选择多芯片设计。

近年来,由于芯片制造商面临技术和财务挑战,先进制程技术发展放缓。 台积电与其他公司面临同样的挑战,但台积电仍有信心,也准备陆续推出2纳米、1.4奈米和1纳米制造。 据台积电称,这种趋势将持续下去,几年后,我们将看到由超过1兆个晶体管组成的多芯片解决方案。 但同时,单芯片将继续变得复杂。

英特尔执行长季辛格日前也分享他对半导体未来的见解,并称摩尔定律并不完全是一条定律,而是一种在过去几十年来一直在放缓,以至于现在每3年就会发生一次「翻倍」 。 为应对维护摩尔定律日益增加的难度,英特尔将在未来几年内推出许多革命性技术。 季辛格称,靠着关键创新将使英特尔能够在10年实现1兆晶体管芯片。

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