imec结盟三井化学EUV纳米碳管光罩护膜2025年后推出

比利时微电子研究中心22日宣布，携手日本化工及极紫外光光罩护膜大厂三井化学，共同推动极紫外光微影应用的纳米碳管光刻薄膜技术商业化，双方正式建立策略伙伴关系。

在此微影技术发展蓝图下，新型光罩薄膜预计于2025-2026年推出，届时阿斯麦开发的新一代0.33数值孔径微影系统也将能支持输出功率超过600W的曝光源。 此开发时程攸关 2 纳米以下逻辑芯片技术的导入。

此次合作，三井化学将把imec根据纳米碳管所研发的创新光罩护膜技术，整合至三井化学的光刻薄膜技术，目标是实现能够全面投产的规格，预计将在2025-2026年导入高功率的极紫外光系统，此次签约于2023 SEMICON Japan日本国际半导体展期间在东京进行。

imec 指出，此战略伙伴关系主要共同开发光刻薄膜及极紫外光光罩护膜，由 imec 提供技术咨询与极紫外光曝光机测试，三井化学进行商用生产。

光罩护膜主要被设计用来保护光罩在极紫外光曝光时免受污染，不仅具备很高的极紫外光穿透率 (≧94%) 和极低的极紫外光反射率，对曝光的影响也能控制到最小，可让先进半导体制造达到高良率和高产量所需的关键性能。

纳米碳管光罩护膜甚至还能承受超过1kW等级的极紫外光输出功率，有助于发展新世代(高于600W)的极紫外光源技术，厂商也对导入极紫外光微影技术产生浓厚兴趣，因此，此次双方将携手开发可供商用的纳米碳管光罩护膜技术，以满足市场需求。

imec先进图形化制程与材料研究计划的资深副总Steven Scheer表示，在协助半导体生态系发展新世代微影技术方面，imec拥有多年经验。 从2015年开始与整个供应链的伙伴们建立了合作，为先进的极紫外光微影技术开发纳米碳管光罩护膜的创新设计。

imec 有信心在量测、特征化、纳米碳管薄膜特性和性能方面，运用掌握的深度知识加速三井化学的产品开发，透过合作，希望能为新世代极紫外光微影技术推动纳米碳管光罩护膜的生产。